Установка предназначена для нанесения методами термического испарения широкого класса оптических покрытий (просветляющих, отражающих, светоделительных) с высокими эксплуатационными характеристиками.
Нанесение покрытий производится с помощью электронно-лучевых и резистивных испарителей работающих последовательно.
Установка обеспечивает:
- безмасляную (сухую) откачку на базе фор вакуумного и криогенного или турбомолекулярного насосов;
- осаждение за один технологический цикл до 60 слоев из 8 материалов в автоматическом режиме
Основные технические характеристики:
- Производительность установки при использовании сферического держателя- ОЛЗм^за цикл или (при использовании планетарного держателя)- 0.27м»за цикл.
- Температура нагрева подложек °С 100-350
- Мощность резистивного испарителя 5000 ВА
- Ускоряющее напряжение ЭЛИ 10000В (при токе нагрузки 0.2А)
Есть вопросы?
Оставьте заявку и мы вам перезвоним