Установка предназначена для нанесения методами термического испарения широкого класса оптических покрытий (просветляющих, отражающих, светоделительных) с высокими эксплуатационными характеристиками.
Нанесение покрытий производится с помощью электронно-лучевых и резистивных испарителей работающих последовательно.
Установка обеспечивает:
- безмасляную (сухую) откачку на базе форвакуумного и криогенного или турбомолекулярного насосов;
- осаждение за один технологический цикл до 42 слоев из 6 материалов в автоматическом режиме
Основные технические характеристики:
- Производительность установки при использовании сферического держателя — 0.38м за цикл или (при использовании планетарного держателя- 0.18м за цикл).
- Температура нагрева подложек °С 100-350
- Мощность резистивного испарителя 4000 ВА
- Ускоряющее напряжение ЭЛИ 10000 В (при токе нагрузки 0.2А)
Есть вопросы?
Оставьте заявку и мы вам перезвоним