АО «Кварц» специализируется на разработке и производстве вакуумного технологического оборудования для широкого спектра задач. Одним из перспективных направлений АО «Кварц» является производство вакуумного напылительного оборудования для микроэлектроники. Для этих целей компания «Кварц» предлагает ряд вакуумных напылительных установок с термическим испарением и магнетронным распылением с предварительной ионно-лучевой очисткой подложек.
Разновидности и номенклатура произведенных установок, созданных компанией, постоянно растет за счет выполненных проектов по производству специального вакуумного оборудования, соответствующего требованиям заказчиков.
Установка предназначена для нанесения методом магнетронного распыления металлических пленок алюминия, титана, никеля, молибдена при производстве изделий электронной техники на пластины Ø 76 мм, Ø100 мм.
Установка предназначена для нанесения методом магнетронного распыления металлических пленок алюминия, титана, никеля, молибдена при производстве изделий электронной техники на пластины Ø 76 мм, Ø100 мм, Ø150 мм, 60х48 .
Установка УВН-74П-3М-3 предназначена для двухстороннего нанесения проводящих слоев различных материалов методом термического, или магнетронного напыления пленочных элементов и схем.
Установка УВН-74П-3М-2 предназначена для двухстороннего нанесения проводящих слоев различных материалов (например, меди, хрома, алюминия, титана) в высоком вакууме методом магнетронного распыления для отработки технологии и серийного производства пленочных элементов и схем.
Установка УВН-74П-3М-1 предназначена для двустороннего нанесения проводящих слоев различных материалов (например, меди, хрома, алюминия, титана) в высоком вакууме методом термического испарения для отработки технологии и серийного производства пленочных элементов и схем.
Установка УВН-71П-3М-1 предназначена для одностороннего нанесения резистивных и металлических слоев в высоком вакууме методом термического испарения на керамические, кремниевые и другие плоские подложки диаметром до 100 мм.