Производство
8 800 201 75 01
Понедельник-пятница с 09:00 до 18:00
Магазин
+7 (4012) 21-76-88
Понедельник-пятница с 10:00 до 19:00
Суббота с 10:00 до 18:00
Воскресенье с 10:00 до 16:00
Поиск
Close this search box.

Будущее микроэлектроники – создан девятислойный кремний с повышенным светоизлучением

Большинство интегральных микросхем собираются на подложке из кремния. Именно он является самым популярным полупроводниковым материалом. При переходе к фотонным схемам повышаются требования к его светоизлучающим свойствам. Учёным Нижегородского университета имени Лобачевского удалось улучшить эту характеристику в 100 раз, а это означает возможность продлить использование кремния, достичь передачи информации в сверхбольших объёмах и значительно ускорить обработку данных.

Результатам исследования нижегородских учёных посвящена статья в журнале Applied Physics Letters, издаваемом Американским институтом физики.

Основой нового метода является оптимизация синтеза гексагональной фазы, в которой кремний представляет собой как бы семейство отдельных кристаллов, отличающихся по структуре от кремния кубической фазы свойствами вдоль одного из атомных направлений.

Методика, созданная учёными ННГУ, предполагает расположение в кремнии атомов в девять слоёв (структура 9R) вдоль определённого направления. Проведённые эксперименты по нановключению этой фазы в сочетании слоёв материалов SiO2/Si (кремний – диоксид кремния) позволили выявить изменения оптических и электрических свойств и определить оптимальные режимы. В фазе 9R повышаются излучательные характеристики: длина волны увеличивается до 1240 нм, а интенсивность светоизлучения вырастает в 100 раз и заметна также при высоких температурах.

Для перехода кремния из кубической фазы в гексагональную применялось воздействие на плёнку кремниевого окисла SiO2, расположенную поверх кремния, ионами инертного газа. При облучении в плёнке возникает напряжение, идёт отдача атомов окисла в подложку. Интенсивность излучения достигает максимального уровня. Остатки окисла затем можно удалить.

Таким образом получают кремний с добавлением гексагональных включений. Такой материал можно в дальнейшем применять для схем передачи данных с помощью света.

Этот метод предполагается внедрить в ближайшем будущем в технологии кремниевой фотоники. Следующие этапы работы в этом направлении: стабилизация однородности состава и толщины получаемых слоёв.

Компания Кварц имеет собственное производство по изготовлению печатных плат высокого уровня сложности. В процессе производства продукции осуществляется тщательный контроль качества, применяются различные методы тестирования и контроля. Для заказа продукции обращайтесь по указанным на сайте контактам.

Важно знать
АО «Кварц» — один из флагманов развития отечественной электроники. Мы изготавливаем печатные платы по 4-5 классу точности (односторонние, двусторонние, многослойные, на алюминиевой основе). А также производим поверхностный и выводной монтаж.
Задать вопрос
Задать вопрос

* — Поля обязательные для заполнения