Высокая производительность установки обеспечивает возможность ее использования для серийного производства изделий микроэлектроники.
Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки.
Установка обеспечивает:
- безмасляную откачку на базе криогенного или турбомолекулярного насосов.
- очистку поверхности изделий перед напылением с помощью ионного источника постоянного тока;
- нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
- автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»
- контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению «свидетеля»;
Основные технические характеристики:
- Количество подложек размером 60×48 мм, обрабатываемых за один цикл, шт. — 40.
- Диапазон температуры нагрева подложек, °С — 100-350.
- Скорость вращения карусели, об/мин — 10-60.
- Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. — 80
По желанию заказчика возможны изменения комплектности установки. Срок поставки установки 8-9 месяцев с момента предоплаты согласно заключенному договору.
Есть вопросы?
Оставьте заявку и мы вам перезвоним
