Высокая производительность установки обеспечивает возможность ее использования для серийного производства изделий микроэлектроники. Установка комплектуется одним испарителем для нанесения резистивных сплавов, двумя испарителями для нанесения металлических слоев и источником ионной очистки.
Установка обеспечивает:
- безмасляную откачку на базе криогенного или турбомолекулярного насосов;
- очистку поверхности подложки перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;
- нагрев подложек до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
- автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;
- контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля.
Основные технические характеристики:
- Количество подложек размером 60×48 мм, обрабатываемых за один цикл, шт. — 19;
- Диапазон температуры нагрева подложек, °С — 100-350;
- Скорость вращения карусели, об/мин — 10-60;
- Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. — 60.
По желанию заказчика возможны изменения комплектности установки. Срок поставки установки 8-9 месяцев с момента предоплаты согласно заключенному договору.
Есть вопросы?
Оставьте заявку и мы вам перезвоним
