Установка предназначена для осаждения многослойных тонких пленок из металлов, сплавов и диэлектриков, методом термического испарения материала электроннолучевыми испарителями на кремниевые подложки диаметром до 100мм.
Установка обеспечивает:
- безмасляную(сухую) откачку на базе форвакуумного и криогенного или турбомолекулярного насосов;
- работу 2-х электронно-лучевых испарителей мощностью 12 кВт нагрев подложек в диапазоне 100-350С;
- автоматическое выполнение программ от «загрузки до выгрузки»;
- контроль и автоматическое окончание процесса напыления по времени или по заданной толщине пленки;
- количество подложек на сферической карусели — 40шт.
Есть вопросы?
Оставьте заявку и мы вам перезвоним
