Установка УВН-74П-3М-2 предназначена для двустороннего нанесения проводящих слоев различных материалов (например, меди, хрома, алюминия, титана) в высоком вакууме методом магнетронного напыления для отработки технологии и серийного производства пленочных элементов и схем.

Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки.

Установка обеспечивает:

· очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;

 · нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;

· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»

· контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению «свидетеля»;

Основные технические характеристики

Количество подложек размером 60х48 мм, обрабатываемых за один цикл, шт. - 40.

Диапазон температуры нагрева подложек, 0С - 100-350.

Скорость вращения карусели, об/мин - 10-60

Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. - 80