Разработка
Производство
Импортозамещение
Установка УВН-74П-3М-2 предназначена для двустороннего нанесения проводящих слоев различных материалов (например, меди, хрома, алюминия, титана) в высоком вакууме методом магнетронного напыления для отработки технологии и серийного производства пленочных элементов и схем.
Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки.
Установка обеспечивает:
· очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;
· нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»
· контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению «свидетеля»;
Основные технические характеристики
Количество подложек размером 60х48 мм, обрабатываемых за один цикл, шт. - 40.
Диапазон температуры нагрева подложек, 0С - 100-350.
Скорость вращения карусели, об/мин - 10-60
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. - 80
На нашем сайте мы используем cookie для сбора информации технического характера.
В частности, для персонифицированной работы сайта мы обрабатываем IP-адрес региона вашего местоположения.
Ок